真空干燥箱

产品名称:带预处理系统真空干燥箱HMDS6210

产品品牌:HASUC

产品型号:HMDS-6210(HASUC独家产品)

包装单位:台

产品分类:真空烘箱(HMDS系统)

产品介绍及技术参数
真空干燥箱真空度可达到133Pa,整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。
   
产品型号: HMDS-6210 HMDS 带预处理系统真空干燥箱
电源电压:AC 380V±10%/50Hz±2%
输入功率:4000W
控温范围:室温+10℃-250℃
温度分辨率:0.1℃
温度波动度:±0.5℃
达到真空度:133Pa
容积:210L
工作室尺寸(mm):560*640*600
外形尺寸(mm):720*820*1750
载物托架:3块
时间单位:分钟
真空泵:国内好品牌,上海“慕鸿”型号:DM-4,旋片式油泵。
   
真空干燥箱产品特点:
1、真空干燥箱机外壳采用不锈钢SUS304材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。
2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。
3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。
4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。
5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。
6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 
   
真空干燥箱HMDS 预处理系统的必要性:
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。
 
 

 

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